光氧催化设备的清洗周期
光氧催化设备的清洗周期一般约为3个月。清洗周期越短，气味处理的功率越高。假如长期不清洗，将会有许多安全隐患。待清洗的洗涤剂可用一般热水和苛性钠完结。水温控制在50°，由于水温文苛性钠处理才能是水温，能够即将清洗的设备放在清洗槽中。
光氧催化清洗的***要过程是堵截电源，翻开检查门，取出要清洗的设备，然后将其浸入苛性钠中半小时，然后用水完全冲刷并用天然办法干燥，以保证设备干燥。能够将其放回UV光解设备中，然后完结简略的清洗作业。装置光氧催化设备后，制造商将为企业进行清洗和保护训练，由于清洗过程并不困难，因而一般人都能够操作，这是光氧催化设备中广泛运用的因素之一。
