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uv光解除臭设备是半导体和空气的催化剂

来源:未知    作者: admin; 发布日期:2018-09-19 11:36

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  uv光解除臭设备是在可见光催化作用下发生的,uv光解除臭设备是基于半导体光氧和空气作为催化剂,基于光能,有机物质降解成二氧化碳和水和其他无毒无害的成分。公司以人造紫外线为能源,配合我公司经过***殊处理活性***强,***有效的纳米二氧化钛催化剂反应,经过处理后的废气治理能达到较***的净化效果。2。在半导体uv光解除臭设备反应,通过紫外线照射纳米二氧化钛催化剂,纳米二氧化钛催化剂吸收光能量产生电子和空穴的飞跃,进一步结合后产生的电子-空穴对,和废气表面吸附的水(H2O)和氧气(O2)反应生成氧化很活波的羟基基(OH)和超氧离子基(O2 - 0)。