光氧催化设备废气处理工艺概述
光氧催化设备废气处理工艺概述——光氧催化设备是继固体、液体和气体之后的***四种物质状态。当施加的电压达到气体的放电电压时，气体被分解，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合物。
在放电过程中，虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个系统出现低温状态，故称为光氧催化设备。光氧催化设备降解污染物是使用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气污染物的影响,因此,污染物的分子在很短的时间内攻击分化,并攻击不同的后续影响达到污染物降解的目的。
光氧催化设备富含较高的材料,如高能电子、离子、自由基和激发态分子,如排气污染物的物质这些能量攻击高,污染在很短的时间内攻击分化,并攻击随后的响应达到污染物的意图。
与传统的光氧催化设备电晕放电技术相比，DBD等离子体放电量为电晕放电的50倍，放电密度为电晕放电的130倍。因此，传统的光氧催化设备技术只能用于室内空气异味管理，与其他光氧催化设备技术相比，DBD等离子体技术用于工业过程废气处理。
